Proses skrin kristal cecair TFT-LCD dibahagikan kepada proses tatasusunan, proses pembungkusan, dan proses modul mengikut susunan pemprosesan. Dalam artikel ini, kami akan memberikan pengenalan terperinci kepada peringkat pertama teknologi tatasusunan.
Proses tatasusunan adalah serupa dengan proses semikonduktor untuk membuat peranti TFT, piksel dan corak lain secara sistematik pada substrat kaca. Teknologi tatasusunan termasuk proses pembersihan, teknologi pembentukan filem CVD, teknologi pembentukan filem Sputter, salutan photoresist atau photoresist (PR), teknologi pembangunan dan pelucutan, teknologi pendedahan, teknologi goresan basah, teknologi goresan kering, dsb. Akhirnya, corak 4-5 filem nipis terbentuk pada substrat kaca.
Pertama, bersihkan substrat kaca dengan teliti, dan kemudian bentuk filem (kaedah Sputter logam, kaedah CVD bukan logam); Sapukan PR pada substrat selepas pembentukan filem dan dedahkannya dengan MASK. Pindahkan corak yang diingini dari MASK ke PR. Selepas membangunkan dan membasuh bahagian fotosensitif PR, PR yang tinggal ialah corak yang diingini; Meneruskan proses goresan (biasanya goresan basah untuk logam dan goresan kering untuk bukan logam), filem tanpa perlindungan PR dikeluarkan, meninggalkan corak filem yang diingini; Akhirnya, keluarkan PR. Rawatan penyepuhlindapan hendaklah dijalankan pada penghujung proses tatasusunan, dan kejuruteraan pemeriksaan hendaklah dijalankan sepanjang keseluruhan proses tatasusunan mengikut keperluan.