1。大きなディスプレイ領域と広いディスプレイ角
TFT-LCDは、他のLCDと比較してより大きなディスプレイエリアを持つことができ、TFT-LCDの最良の垂直および水平ビューング角は178度に達し、他のLCDにはマッチされていません。
2。高いチップ統合と良好な使用法
LCD投影に使用される1.3インチTFTチップの解像度はXGAで、これには数百万ピクセルが含まれています。 SXGA（1280×1024）の解像度を備えた16.1インチTFTアレイアモルファスシリコンのフィルムの厚さはわずか50nmであり、ガラス技術のガラスとシステムのタブは、IC統合、機器、供給技術の要件、および技術的な困難を備えています。従来のLSIよりも。低電圧アプリケーション、低駆動電圧、安全性の向上、固体の使用における信頼性。平坦化と軽量。
3.優れたディスプレイの品質と低い有害な放射線
TFTはもともと、液晶の光バルブ特性を改善するためのマトリックス選択回路として使用されていました。高解像度ディスプレイの場合、オブジェクト要素の正確な制御は、0〜6V範囲（典型的な値0.2〜4V）の電圧調節を通じて達成され、LCDが高品質の高解像度ディスプレイを実現できるようになります。 TFT-LCDは、ディスプレイ品質のCRTを超える人類史上最初のフラットパネルディスプレイです。今日、人々はドライバーICをガラス基板に統合し始めており、TFT全体を従来の大規模な半導体統合回路よりも強力にしています。放射線、ちらつき、ユーザーの健康への害はありません。特にTFT-LCDの電子書籍や雑誌の出現により、人類がペーパーレスオフィスとペーパーレス印刷の時代に人類をもたらし、人間が文明を学び、広め、記録する方法の革命を引き起こします。
4。低い生産コストと複数の製造プロセス
ガラスおよびプラスチック基板は、大規模な半導体積分回路のコスト問題を根本的に解決し、大規模な半導体積分回路を適用するための広大な用途スペースを開きます。スパッタリング、CVD（化学蒸気堆積）、MCVD（分子化学蒸気堆積）などの従来のプロセスに加えて、レーザーアニーリング技術も適用され始めました。シリコンフィルムを作ることができるだけでなく、他のII-VIおよびIII-V半導体薄膜も作成できます。
5。広範な適用性とアプリケーションフィールド
TFT-LCDは通常、温度範囲-20°〜+50℃で使用でき、温度補強処理後のTFT-LCDの低温作業温度はマイナス80°に達することがあります。モバイルターミナルディスプレイ、デスクトップターミナルディスプレイ、および大画面投影テレビとしても使用でき、高性能のフルサイズのビデオディスプレイ端末になります。 TFTテクノロジーに基づいたLCDフラットパネルディスプレイは、情報社会の柱産業であり、この技術は急速に成長している薄膜トランジスタ有機電子ルミネク（TFT-OLED）フラットパネルディスプレイにも適用できます。